第四届 RIMOWA（日默瓦）设计大奖正式启动

科隆，2025年11月4日：自 1898 年在科隆创立以来，RIMOWA（日默瓦）始终以设计与创新不断定义行业标准。为延续对精湛工艺的不懈追求，第四届 RIMOWA（日默瓦）设计大奖自即日起正式启动，旨在为行业发掘和培养新一代年轻创意人士。

RIMOWA（日默瓦）设计大奖根植于创新、包容与全球影响力的核心价值，始终致力于通过与德国顶尖设计院校的合作，大力支持青年设计人才的未来发展。本届大赛汇聚了来自 42 所设计院校的专业人士，他们将担任评委与导师，为参赛者提供指导，助其将创意构想转化为可行方案，为未来设计发展奠定坚实基础。

本届评审团邀请到了诸多著名的设计专家等杰出人士。成员包括：徕卡相机公司摄影与设计副总裁 Stefan Daniel、e15 合伙人兼艺术总监 Farah Ebrahimi、Konstantin Grcic 设计工作室创始人 Konstantin Grcic、跨领域实践者兼 CIVIC 艺术总监 Matylda Krzykowski、ignant创始人兼创意总监 Clemens Poloczek、西门子医疗工业设计负责人 Tim Richter 以及 Hanne Willmann设计工作室创始人Hanne Willmann。

本届大赛将再度延续对RIMOWA（日默瓦）核心设计理念——“流动性”的探索。在这一主题下，往届参赛者从医疗解决方案到交通与城市设计，广泛涉足日常生活的各个领域，呈现了诸多极具创意的方案。

自今日起持续至 2026 年 5 月，第四届 RIMOWA（日默瓦）设计大奖最终将于柏林举行颁奖仪式并展示决赛入围项目。RIMOWA（日默瓦）设计大奖将为参赛者提供宝贵的交流机会，不仅可以参观导师的工作场所，感受专业的设计环境，还可以受邀参观 RIMOWA（日默瓦）总部，并有机会独家探访品牌的科隆工厂。为表彰参赛者的出众表现，RIMOWA（日默瓦）还将通过一系列奖励对七名决赛入围者进行表彰。由评审团选出的第一名将获得 20,000 欧元奖金，第二名将获得 10,000 欧元奖金，第三至七名将分别获得 5,000 欧元奖金。

2026 RIMOWA（日默瓦）设计大奖评审团成员：
RIMOWA（日默瓦）董事长 Alexandre Arnault【荣誉评审】
RIMOWA（日默瓦）首席执行官Hugues Bonnet-Masimbert【荣誉评审】
Leica Camera AG摄影与设计副总裁Stefan Daniel
e15合伙人及艺术总监Farah Ebrahimi；Konstantin Grcic Design创始人Konstantin Grcic
CIVIC跨学科设计师及艺术总监Matylda Krzykowski
ignant创始人及创意总监Clemens Poloczek
Siemens Healthineers工业设计主管Tim Richter
Studio Hanne Willmann创始人Hanne Willmann

42所合作高校包括：
慕尼黑时装与设计学院（Akademie Mode & Design München）
魏玛包豪斯大学（Bauhaus-Universität Weimar）
德国伍珀塔尔大学（Bergische Universität Wuppertal）
德国汉堡品牌应用技术大学（Brand University of Applied Sciences Hamburg）
哈雷艺术和设计学院（Burg Giebichenstein Kunsthochschule Halle）
多特蒙德应用技术大学（Fachhochschule Dortmund）
波茨坦应用技术大学（Fachhochschule Potsdam）
南威斯特伐利亚应用技术大学（Fachhochschule Südwestfalen）
亚琛应用技术大学（FH Aachen）
明斯特应用技术大学（FH Münster）
富克旺根艺术大学（Folkwang Universität der Künste）
安哈尔特应用技术大学（Hochschule Anhalt）
科堡应用技术大学（Hochschule Coburg）
萨尔造型艺术学院（Hochschule der Bildenden Künste Saar）
杜塞尔多夫应用技术大学（Hochschule Düsseldorf）
汉堡美术学院（Hochschule für bildende Künste Hamburg）
奥芬巴赫设计学院（Hochschule für Gestaltung Offenbach am Main）
施瓦本格明德设计学院（Hochschule für Gestaltung Schwäbisch Gmünd）
不莱梅艺术学院（Hochschule für Künste Bremen）
德累斯顿应用科技大学（Hochschule für Technik & Wissenschaft Dresden）
霍夫应用技术大学（Hochschule Hof）
斯图加特媒体学院（Hochschule Macromedia Stuttgart）
马格德堡应用技术大学（Hochschule Magdeburg-Stendal）
普福尔茨海姆应用技术大学（Hochschule Pforzheim）
罗伊特林根应用技术大学（Hochschule Reutlingen）
特里尔应用技术大学（Hochschule Trier）
维斯马应用技术大学（Hochschule Wismar）
国际应用技术大学（IU Internationale Hochschule）
卡斯特艺术学院（Kunsthochschule Kassel）
柏林传媒应用技术大学（Media University Berlin）
基尔艺术学院（Muthesius Kunsthochschule Kiel）
奥托·冯·格里克马格德堡大学（Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg）
杜塞尔多夫应用技术大学彼得·贝伦斯艺术学院（Peter Behrens School of Arts Hochschule Düsseldorf）
斯图加特国立造型艺术学院（Staatliche Akademie der Bildenden Künste Stuttgart）
德国卡尔斯鲁厄国立设计学院（Staatliche Hochschule für Gestaltung Karlsruhe）
代根多夫应用技术大学（Technische Hochschule Deggendorf）
科隆工业大学（Technische Hochschule Köln）
纽伦堡应用技术大学（Technische Hochschule Nürnberg Georg Simon Ohm）
柏林艺术大学（Universität der Künste Berlin）
柏林白湖美术学院（Weißensee Kunsthochschule Berlin）
德国茨维考西萨克森应用技术大学（Westsächsische Hochschule Zwickau）